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L4513-3擴散爐
擴散爐是半導體生產線前工序的重要工藝設備之一,用于大規模集成電路、分立器件、電力電子、光電器件和光導纖維等行業的擴散、氧化、退火、合金及燒結等工藝。
產品概述
L4513-3擴散爐
一、簡介
擴散爐是半導體生產線前工序的重要工藝設備之一,用于大規模集成電路、分立器件、電力電子、光電器件和光導纖維等行業的擴散、氧化、退火、合金及燒結等工藝。
擴散爐由控制系統、進出舟系統、爐體加熱系統和氣體控制系統等組成。控制部分包括:溫控器、功率部件、超溫保護部件、系統控制。系統控制部分有四個獨立的計算機控制單元,分別控制每層爐管的推舟、爐溫及氣路部分,是擴散/氧化系統的控制中心。輔助控制系統,包括推舟控制裝置、保護電路、電路轉接控制、三相電源指示燈、照明、凈化及抽風開關等。
二、產品特點:
◆主機為水平一至四管爐系統構架,獨立完成不同的工藝或相同工藝
◆工業計算機控制系統,對爐溫、進退舟、氣體流量、閘門等動作進行自動控制
◆采用懸臂送片器:操作方便、無摩擦污染等
◆關鍵部件均采用進口,確保設備的高可靠性
◆工藝管路采用進口閥門管件組成氣密性好、耐腐蝕、無污染
◆控溫精度高,溫區控溫穩定性好;
◆具有斷電報警、超溫報警、極限超溫報警等多種安全保護功能
三、L4513-3擴散爐主要技術指標
1、石英管直徑:¢120 , 3管單管
2、工藝規格:4寸硅片
3、工作溫度:200-1100℃
4、恒溫區長度:600mm
5、升溫速率:15℃/分
6、升溫功率:小于10KW
7、保溫功率:小于5KW
8、外形尺寸:2000MM×600 MM×1400MM
9、重量:600Kg
10、工作臺:有凈化/無凈化
11、工藝氣路:對應的工藝氣路,氣路閥門組件采用國際優質品牌產品
技術參數
1、石英管直徑:¢120 , 3管單管
2、工藝規格:4寸硅片
3、工作溫度:200-1100℃
4、恒溫區長度:600mm
5、升溫速率:15℃/分
6、升溫功率:小于10KW
7、保溫功率:小于5KW
8、外形尺寸:2000MM×600 MM×1400MM
9、重量:600Kg
10、工作臺:有凈化/無凈化
11、工藝氣路:對應的工藝氣路,氣路閥門組件采用國際優質品牌產品